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產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

半導(dǎo)體電子設(shè)備

全自動(dòng)硅片（晶片）超聲波清洗機(jī) 硅片甩干機(jī) 單槽分體式超聲波清洗機(jī) 四槽半自動(dòng)超聲波清洗機(jī) 半自動(dòng)超聲波清洗機(jī) 全自動(dòng)陶瓷盤超聲波清洗機(jī) 硅片擴(kuò)散超聲波清洗機(jī) MESA/SC晶片清洗設(shè)備晶片腐蝕清洗機(jī) 外延片（硅片）腐蝕清洗機(jī) 立式旋轉(zhuǎn)沖洗甩干機(jī) 濕法腐蝕清洗系統(tǒng) 硅材料清洗旋轉(zhuǎn)沖洗甩干機(jī)

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硅片甩干機(jī)作業(yè)主要操作內(nèi)容

鍍層測(cè)厚儀的原理及優(yōu)勢(shì)

金屬表面氧化物對(duì)鋼板超聲波測(cè)厚儀的影響

全自動(dòng)晶片超聲波清洗機(jī)

全自動(dòng)晶片超聲波清洗機(jī)用于清洗石英晶片、夾具、硅片、藍(lán)寶石片、光學(xué)晶片等器件，環(huán)形結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，全自動(dòng)流程，采用觸摸屏PLC控制，操作簡(jiǎn)便，可以節(jié)省大量人力，節(jié)約成本，給企業(yè)帶來(lái)可觀的效益。主要特點(diǎn)：采用進(jìn)口元器件，如：三菱、臺(tái)達(dá)、西門子等品牌。主要功能：超聲波清洗機(jī)、加熱溫控、時(shí)間控制、循環(huán)過(guò)濾、變頻調(diào)速等。超聲波頻率采用多種頻率：如：28KHz，40KHz，150KHz。

更新時(shí)間：2025-03-24

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LC半自動(dòng)超聲波清洗機(jī)

LC半自動(dòng)超聲波清洗機(jī)本機(jī)是仿日本晶片清洗機(jī)，在原來(lái)的基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn)、設(shè)計(jì)，功能多，但易操作，主要用于清洗晶片、硅片、五金小件、光學(xué)玻璃、光學(xué)鏡片等。

更新時(shí)間：2021-06-10

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外延片（硅片）腐蝕清洗機(jī)

外延片（硅片）腐蝕清洗機(jī)手動(dòng)方式實(shí)現(xiàn)放件，取件，槽體間傳送件；腐蝕工藝自動(dòng)補(bǔ)藥液，保證了工藝槽在運(yùn)行過(guò)程中濃度的穩(wěn)定性。

更新時(shí)間：2021-06-10

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半自動(dòng)超聲波清洗機(jī)

半自動(dòng)超聲波清洗機(jī)本機(jī)主要適用于藍(lán)寶石片、硅片、石英晶片、機(jī)械五金件等零件的清洗。本機(jī)經(jīng)濟(jì)實(shí)用，性能可靠，維護(hù)方便。

更新時(shí)間：2021-06-10

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全自動(dòng)陶瓷盤式超聲波清洗機(jī)

全自動(dòng)陶瓷盤式超聲波清洗機(jī)本機(jī)用于藍(lán)寶石外延片生產(chǎn)中所用陶瓷盤的清洗，主要去處陶瓷盤上的膠質(zhì)、附著物等。全自動(dòng)控制，也可手動(dòng)控制，節(jié)約人力，清洗效果好，是廣電生產(chǎn)企業(yè)的*生產(chǎn)設(shè)備。

更新時(shí)間：2021-06-10

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MESA/SC晶片清洗設(shè)備

MESA/SC晶片清洗設(shè)備該機(jī)清洗程序?yàn)樗嵯础⒊曄础娏芮逑础⒘飨础Ｆ涔に囆阅苤笜?biāo)及可靠性*達(dá)到進(jìn)口同類設(shè)備水平。采用進(jìn)口PP板制作。適用MESA*SC晶片清洗。超聲功率強(qiáng)勁，性能穩(wěn)定。采用進(jìn)口超聲波電源。

更新時(shí)間：2021-06-10

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